YZ001 und YZ002 Einheitliche Partikelharz -- Europäisches Halbleiter-Ultra-Reines-Wasser-Projekt
2026-02-11
Projekthintergrund
Eine professionelle Halbleiterwafer-Produktionsanlage in Deutschland benötigt hochreines Prozesswasser für das Ätzen des Kernchips und Präzisionsreinigungsprozesse. Die ursprünglichen Standard-Mischbettharze der Anlage wiesen ungleichmäßige Partikelgrößen auf, was zu einer Kanalisierung des Wasserflusses, einer instabilen Widerstandsleistung und gelegentlichen TOC-Überschreitungen führte. Diese Inkonsistenzen wirkten sich negativ auf die Waferausbeute und die allgemeine Produktionsstabilität aus.
Herausforderungen vor Ort
1. Ungleichmäßige Harzpartikelgrößen führten zu einer unregelmäßigen Wasserverteilung und einer geringen Ionenaustauscheffizienz.
2. Herkömmliche Harze enthielten übermäßig viele lösliche auslaugbare Stoffe und erfüllten nicht die strengen Reinheitsanforderungen für Wasser in elektronischer Qualität.
3. Eine begrenzte Antifouling-Beständigkeit führte bei längerem Dauerbetrieb zu einem allmählichen Leistungsabfall.
Maßgeschneiderte Lösung
Wir empfahlen das Kationenharz YZ001 mit einheitlichen Partikeln in elektronischer Qualität und das Anionenharz mit gleichmäßigen Partikeln YZ002 als Endpolier-Mischbett. Durch die streng kontrollierte Partikelgleichmäßigkeit verhindern die Harze die Kanalisierung der Bettströmung, minimieren die Freisetzung löslicher Verunreinigungen und bieten eine hervorragende Beständigkeit gegen organische Verschmutzungen. Wir haben auch den Systemregenerationsplan optimiert, um über längere Betriebszyklen hinweg eine gleichbleibende Ausgabe von hochreinem Wasser zu gewährleisten.
Anwendungsergebnisse
1. Das Reinstwassersystem hält einen stabilen spezifischen Widerstand von 18,2 MΩ·cm mit TOC-Werten konstant unter 1 ppb aufrecht und erfüllt damit vollständig die internationalen Reinheitsstandards für die Halbleiterfertigung.
2. Die Gesamtstabilität des Systems wird erheblich verbessert und die Laufzeit der kontinuierlichen Wasserproduktion wird effektiv verlängert.
3. Die konstante, ultrahohe Wasserreinheit hat der Anlage dabei geholfen, die Waferausbeute zu verbessern und die Fehlerquote bei der Produktion zu senken.
Kundenbewertung
„Diese gleichmäßigen Partikelharze liefern eine außergewöhnlich stabile Reinstwasserleistung und erfüllen voll und ganz unsere strengen Anforderungen an die hochpräzise Halbleiterfertigung.“ —— Wassersystemingenieur, Deutsche Halbleiterfabrik