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YZ001 y YZ002 Resina de Partículas Uniformes. Proyecto Europeo de Semiconductores de Agua Ultrapura.
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YZ001 y YZ002 Resina de Partículas Uniformes. Proyecto Europeo de Semiconductores de Agua Ultrapura.

2026-02-11

último caso de la empresa sobre YZ001 y YZ002 Resina de Partículas Uniformes. Proyecto Europeo de Semiconductores de Agua Ultrapura.
Antecedentes del proyecto
Una instalación profesional de fabricación de obleas semiconductoras en Alemania requiere agua de proceso de pureza ultraalta para los procesos de grabado de chips centrales y limpieza de precisión. Las resinas de lecho mixto estándar originales de la planta presentaban tamaños de partículas desiguales, lo que provocaba una canalización del flujo de agua, una salida de resistividad inestable y un exceso ocasional de TOC. Estas inconsistencias afectaron negativamente las tasas de rendimiento de las obleas y la estabilidad general de la producción.
Desafíos en el sitio
1. Los tamaños desiguales de las partículas de resina dieron como resultado una distribución irregular del agua y una baja eficiencia del intercambio iónico.
2. Las resinas convencionales contenían excesivos lixiviables solubles y no cumplían con las estrictas especificaciones de pureza del agua de grado electrónico.
3. La resistencia antiincrustante limitada provocó una disminución gradual del rendimiento durante el funcionamiento continuo a largo plazo.
Solución personalizada
Recomendamos la resina catiónica de partículas uniformes YZ001 de grado electrónico y la resina aniónica de partículas uniformes YZ002 como lecho mixto de pulido de etapa final. Con una uniformidad de partículas estrictamente controlada, las resinas eliminan la canalización del flujo del lecho, minimizan la liberación de impurezas solubles y ofrecen una excelente resistencia a las incrustaciones orgánicas. También optimizamos el programa de regeneración del sistema para garantizar una producción constante de agua de alta pureza durante ciclos de operación extendidos.
Resultados de la aplicación
1. El sistema de agua ultrapura mantiene una resistividad estable de 18,2 MΩ · cm con niveles de TOC constantemente por debajo de 1 ppb, cumpliendo plenamente con los estándares internacionales de pureza de fabricación de semiconductores.
2. La estabilidad general del sistema mejora significativamente y el tiempo de funcionamiento continuo de la producción de agua se prolonga de manera efectiva.
3. La pureza ultraalta constante del agua ha ayudado a que la instalación mejore el rendimiento de las obleas y reduzca las tasas de defectos de producción.
Revisión del cliente
"Estas resinas de partículas uniformes ofrecen un rendimiento de agua ultrapura excepcionalmente estable, satisfaciendo plenamente nuestros rigurosos requisitos para la fabricación de semiconductores de alta precisión". —— Ingeniero de sistemas de agua, fábrica alemana de semiconductores
Wuhan, Hubei, China 430000
Teléfono: 13121664710
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