Résine de particules uniformes YZ001 et YZ002 | Projet d'eau ultra-pure de semi-conducteurs au Vietnam

Contextes du projet
Une grande usine de fabrication de plaquettes de semi-conducteurs au Vietnam a construit une nouvelle station d'eau ultra-pure de qualité électronique.production de plaquettes de silicium et essais en laboratoireLa résine de lit mixte ordinaire d'origine avait une taille de particules inégale, une faible résistance à haute température, une résistivité à l'eau instable et une décomposition fréquente de la résine.qui ont gravement affecté le rendement du produit et la production continueLe client avait besoin d'une résine d'échange d'ions de particules uniforme, à haute résistance aux températures et à haute résistance mécanique.
Des difficultés sur place
La chaîne de production fonctionne toute l'année et nécessite une eau ultra-pure stable supérieure à 18 MΩ·cm sans fluctuation.
La température de fonctionnement du condensat partiel dépasse 120°C, la résine commune est facile à fissurer et à se dilater sérieusement.
Les perles de résine irrégulières entraînent une chute de pression élevée, un lavage à contre-courant fréquent et un cycle de service court.
Les ions de métaux lourds tels que le calcium et le nickel dans l'eau brute sont difficiles à éliminer en profondeur, ce qui provoque des défauts de surface de la gaufre.
Solution personnalisée
Nous avons adopté la résine acide cation forte à haute température à grain uniforme YZ001 et la résine anionique à base forte à grain uniforme YZ002 pour construire un système de lit mixte en deux étapes.1 coefficient uniforme, haute résistance à la compression et température de travail maximale jusqu'à 140°C; YZ002 assorti élimine complètement les anions tels que le fluorure et le sulfate.Nous avons ajusté le débit de régénération et la concentration acide-alcaline en fonction de la qualité de l'eau locale pour améliorer l'efficacité de l'échange et les performances anti-pollution.
Résultats de l'application
La résistivité de l'eau de sortie se maintient stablement au-dessus de 18,2 MΩ·cm, répond pleinement à la norme de l'eau semi-conducteur de qualité électronique.
La vitesse de concassage de la résine diminue fortement, la chute de pression du lit reste constante, la durée de vie est allongée de 1 an à 3 ans.
Élimination en profondeur du Ca2+, du Ni2+, du F− et d'autres impuretés, taux de défauts de la gaufre réduit de 28%.
La régénération réduit de 25% la consommation d'acide et d'alcali, ce qui réduit considérablement le coût de fonctionnement quotidien de la station d'eau.