2026-07-16
프로젝트 배경
베트남의 큰 반도체 웨이퍼 제조 공장은 새로운 전자 수준의 초순수 역을 건설했습니다. 공장은 칩 청소를 위해 18MΩ·cm의 고순수 공급을 지속적으로 필요로합니다.실리콘 웨이퍼 생산 및 실험실 검사원래의 일반 혼합 베드 樹脂은 불규칙한 입자 크기, 낮은 고온 저항성, 불안정한 물 저항성 및 빈번한 樹脂 분해가있었습니다.이산화탄소 생산량과 지속적인 생산에 심각한 영향을 미쳤습니다.고객은 높은 온도 저항과 높은 기계적 강도를 갖춘 균일한 입자 이온 교환 樹脂이 필요했습니다.
현장 에서 겪는 어려움
생산 라인은 일년 내내 작동하며 변동 없이 18 MΩ·cm 이상의 안정적인 초순수 물을 필요로 합니다.
부분 응축물 작업 온도는 120°C 이상, 일반적인 樹脂은 쉽게 균열되고 심각하게 확장됩니다.
불규칙한 樹脂 구슬은 높은 침대 압력 하락, 빈번한 역 세척 및 짧은 서비스 사이클을 초래합니다.
원료 물에서 칼슘과 니켈과 같은 중금속 이온은 깊이 제거하기가 어렵고 웨이퍼 표면 결함을 유발합니다.
맞춤형 솔루션
우리는 YZ001 균일 곡물 고온 강한 산성 카티온 樹脂과 YZ002 균일 곡물 강한 염기 안이온 樹脂을 합쳐 두 단계 혼합 베드 시스템을 구축했습니다. YZ001는 특징 1.1 균일 계수, 높은 압축 강도 및 최대 작업 온도 140°C까지; 일치 YZ002 플루오라이드 및 황산 등의 아니온을 완전히 제거합니다.우리는 지역 물 품질에 따라 재생 흐름 속도와 산-알칼리 농도를 조정하여 교환 효율성과 오염 방지 성능을 향상시킵니다..
신청 결과
출구 물의 저항성은 18.2 MΩ·cm 이상으로 안정적으로 유지되며 전자 수준의 반도체 물 표준을 완전히 충족합니다.
樹脂 분쇄 속도는 급격히 떨어지고 침대의 압력 하락은 일정하며 서비스 수명은 1 년에서 3 년으로 연장됩니다.
Ca2+, Ni2+, F− 및 기타 불순물의 깊은 제거, 웨이퍼 결함 비율 28% 감소
재생 산소 및 알칼리 소비는 25%로 줄여서 물 스테이션의 일일 운영 비용을 크게 낮추었습니다.
