2026-07-16
プロジェクトの背景
ベトナムの大規模な半導体ウェーハ製造工場は、新しい電子グレードの超純水ステーションを建設しました。この工場では、チップの洗浄、シリコンウェーハの製造、実験室でのテストのために、18MΩ・cmの高純度水を継続的に供給する必要があります。当初の通常の混床樹脂は、粒径が不均一で、耐高温性が低く、耐水性が不安定で、樹脂の破損が頻繁に発生するため、製品の歩留まりや連続生産に重大な影響を及ぼしていました。お客様は、高温耐性と高い機械的強度を備えた、均一な粒子のイオン交換樹脂を必要としていました。
現場での課題
生産ラインは一年中稼働しており、変動のない安定した18MΩ・cm以上の超純水が必要となります。
部分凝縮物の使用温度は120℃以上に達し、一般的な樹脂は亀裂が発生しやすく、深刻な膨張を起こします。
樹脂ビーズが不均一であると、ベッドの圧力降下が大きくなり、逆洗が頻繁になり、サービスサイクルが短くなります。
原水中のカルシウムやニッケルなどの重金属イオンは深く除去することが難しく、ウェーハ表面欠陥の原因となります。
カスタマイズされたソリューション
マッチングしたYZ001均一粒子高温強酸カチオン樹脂とYZ002均一粒子強塩基アニオン樹脂を採用し、二段階混合床システムを構築しました。 YZ001 は、1.1 の均一係数、高い圧縮強度、および 140℃ までの最大使用温度を特徴としています。マッチしたYZ002はフッ化物や硫酸塩などの陰イオンを完全に除去します。地域の水質に応じて再生流量と酸・アルカリ濃度を調整し、交換効率と汚染防止性能を向上させました。
申請結果
出口水抵抗率は安定して18.2MΩ・cm以上を維持し、電子グレードの半導体水規格を完全に満たしています。
樹脂の粉砕率は急激に低下し、ベッド圧力降下は安定し、耐用年数は 1 年から 3 年に延長されました。
Ca2⁺、Ni2⁺、F⁻、その他の不純物を徹底的に除去し、ウェーハの不良率を28%削減。
再生酸とアルカリの消費量が 25% 削減され、給水所の毎日の運営コストが大幅に削減されました。
