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Resina de partículas uniformes YZ001 e YZ002 | Projeto de água ultrapura de semicondutores do Vietnã
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Resina de partículas uniformes YZ001 e YZ002 | Projeto de água ultrapura de semicondutores do Vietnã

2026-07-16

caso mais recente da empresa sobre Resina de partículas uniformes YZ001 e YZ002 | Projeto de água ultrapura de semicondutores do Vietnã

Antecedentes do projeto
Uma grande fábrica de fabricação de wafers de semicondutores no Vietname construiu uma nova estação de água ultrapura de nível eletrônico.Produção e ensaios laboratoriais de wafers de silícioA resina de cama mista comum original apresentava tamanhos de partículas desiguais, baixa resistência a altas temperaturas, resistência à água instável e frequente degradação da resina.que afetaram seriamente o rendimento do produto e a produção contínuaO cliente precisava de resina uniforme de troca de iões de partículas com resistência a altas temperaturas e alta resistência mecânica.
Desafios no local
A linha de produção funciona durante todo o ano, exigindo água ultrapura estável acima de 18 MΩ·cm sem flutuação.
A temperatura de funcionamento do condensado parcial atinge mais de 120°C, a resina comum é fácil de rachar e de se expandir seriamente.
As contas de resina irregulares levam a uma alta queda de pressão no leito, lavagem reversa frequente e curto ciclo de serviço.
Os íons de metais pesados, como cálcio e níquel na água crua, são difíceis de remover profundamente, causando defeitos na superfície da bolacha.
Solução personalizada
Adotamos resina catiônica ácida forte de alta temperatura de grão uniforme YZ001 e resina aniônica de base forte de grão uniforme YZ002 para construir um sistema de cama mista de dois estágios.1 coeficiente uniforme, alta resistência à compressão e temperatura máxima de funcionamento até 140°C; o YZ002 combinado elimina completamente aniões como flúor e sulfato.Ajustamos a taxa de fluxo de regeneração e a concentração ácido-alcalina de acordo com a qualidade da água local para melhorar a eficiência da troca e o desempenho antipoluição.
Resultados da aplicação
A resistência da água de saída mantém-se estável acima de 18,2 MΩ·cm, cumprindo plenamente o padrão de água semicondutora de nível eletrônico.
A taxa de trituração da resina diminui drasticamente, a queda da pressão do leito permanece constante, a vida útil é estendida de 1 ano para 3 anos.
Remoção profunda de Ca2+, Ni2+, F− e outras impurezas, taxa de defeito da bolacha reduzida em 28%.
O consumo de ácido e álcali de regeneração foi reduzido em 25%, reduzindo consideravelmente o custo de operação diária da estação de água.

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