Resina de partículas uniformes YZ001 e YZ002 | Proyecto de agua ultrapura de semiconductores de Vietnam

Antecedentes del proyecto
Una gran fábrica de fabricación de obleas de semiconductores en Vietnam construyó una nueva estación de agua ultrapura de grado electrónico.producción de obleas de silicio y ensayos de laboratorioLa resina de lecho mixto ordinaria original tenía un tamaño de partículas desigual, una baja resistencia a altas temperaturas, una resistencia al agua inestable y una descomposición frecuente de la resina.que afectaron seriamente al rendimiento del producto y a la producción continuaEl cliente necesitaba una resina uniforme de intercambio iónico de partículas con resistencia a altas temperaturas y alta resistencia mecánica.
Desafíos en el lugar
La línea de producción funciona durante todo el año y requiere agua ultrapura estable de más de 18 MΩ·cm sin fluctuaciones.
La temperatura de trabajo del condensado parcial alcanza más de 120 °C, la resina común es fácil de agrietar y se expande seriamente.
Las perlas de resina irregulares conducen a una alta caída de la presión del lecho, un lavado frecuente y un ciclo de servicio corto.
Los iones de metales pesados como el calcio y el níquel en el agua cruda son difíciles de eliminar en profundidad, causando defectos en la superficie de la oblea.
Solución personalizada
Hemos adoptado resina de cationes ácidos de alta temperatura de grano uniforme YZ001 y resina de aniones de base fuerte de grano uniforme YZ002 para construir un sistema de lecho mixto de dos etapas.1 coeficiente uniforme, alta resistencia a la compresión y temperatura máxima de trabajo de hasta 140°C; el YZ002 combinado elimina completamente aniones como el fluoruro y el sulfato.Ajustamos la tasa de flujo de regeneración y la concentración ácido-alcalina de acuerdo con la calidad del agua local para mejorar la eficiencia del intercambio y el rendimiento antipollución.
Resultados de la aplicación
La resistividad del agua de salida se mantiene estable por encima de 18,2 MΩ·cm, cumple plenamente con el estándar de agua de semiconductores de grado electrónico.
La velocidad de trituración de la resina disminuye drásticamente, la caída de la presión del lecho se mantiene constante, la vida útil se extiende de 1 año a 3 años.
Eliminación profunda de Ca2+, Ni2+, F− y otras impurezas, tasa de defecto de la oblea reducida en un 28%.
El consumo de ácido y álcali de regeneración se redujo en un 25%, lo que redujo en gran medida el costo de operación diaria de la estación de agua.