YZ001 e YZ002 Resina a particelle uniformi | Progetto per l'acqua ultrapura di Vietnam Semiconductor

Anteprima del progetto
Una grande fabbrica di wafer a semiconduttori in Vietnam ha costruito una nuova stazione di acqua ultra pura di grado elettronico.produzione di wafer di silicio e sperimentazione di laboratorioLa resina comune di letto misto originale presentava dimensioni di particelle irregolari, scarsa resistenza alle alte temperature, resistenza instabile all'acqua e frequente degradazione della resina.che hanno gravemente influito sulla resa del prodotto e sulla produzione continuaIl cliente aveva bisogno di una resina uniforme per lo scambio ionico di particelle, resistente alle alte temperature e ad alta resistenza meccanica.
Sfide sul posto
La linea di produzione funziona tutto l'anno e richiede un'acqua ultrapura stabile superiore a 18 MΩ·cm senza fluttuazioni.
La temperatura di lavoro del condensato parziale supera i 120°C, la resina comune è facile da craccare e si espande seriamente.
Le perline di resina irregolari causano un'elevata caduta della pressione del letto, un ripensamento frequente e un breve ciclo di manutenzione.
Gli ioni di metalli pesanti come il calcio e il nichel nell'acqua grezza sono difficili da rimuovere in profondità, causando difetti superficiali dei wafer.
Soluzione personalizzata
Abbiamo adottato la resina cation acida forte ad alta temperatura di grano uniforme YZ001 e la resina anionica di base forte di grano uniforme YZ002 per costruire un sistema a due fasi misto.1 coefficiente uniforme, elevata resistenza alla compressione e temperatura di lavoro massima fino a 140°C; l'YZ002 abbinato elimina completamente gli anioni come il fluoruro e il solfato.Abbiamo regolato il flusso di rigenerazione e la concentrazione acido-alcalina in base alla qualità dell'acqua locale per migliorare l'efficienza dello scambio e le prestazioni anti-inquinamento.
Risultati dell'applicazione
La resistività dell'acqua di uscita si mantiene stabilmente al di sopra di 18,2 MΩ·cm, soddisfa pienamente lo standard dell'acqua semiconduttrice di grado elettronico.
La velocità di frantumazione della resina scende drasticamente, la pressione del letto rimane costante, la durata di vita è estesa da 1 anno a 3 anni.
Rimozione profonda di Ca2+, Ni2+, F− e altre impurità, tasso difettoso dei wafer ridotto del 28%.
Il consumo di acidi e alcali di rigenerazione è ridotto del 25%, riducendo notevolmente i costi di gestione giornaliera della stazione idrica.